




丁二---工厂介绍光刻工艺是一种表面加工技术,在半导体电子器件和集成电路制造中占有重要---。为在表面实现选择性腐蚀,琥珀---批发,采用一类具有抗蚀作用的感光树脂材料作为抗蚀涂层,琥珀---结构式,称为抗蚀剂,国内通称光刻胶。按照溶解度的不同而将光刻胶分为“正性”光刻胶和“负性”光刻胶,浙江舟山琥珀---,按所用---光源和辐射光源的不同,又可将其分为紫外、远紫外、电子束、x射线等光刻胶。
化学品主要有以下危险性: (1)bz性; (2)燃烧性;(3)氧化性; (4)毒性、---性、ma醉性、致敏性、窒总性、---性; (5)腐蚀性; (6)放she性; (7)高压气体危险性。
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